1、中国光刻机水平已经达到世界先进水平。
2、中国光刻机水平还有很大的提升空间,目前主要是缺乏高端光刻机设备和材料。在光刻机领域,现阶段最为关键的两个因素就是光源和光刻胶,这两项技术都掌握在美日欧等少数发达国家手里,所以只能依赖进口。另外,光刻机的核心部件如镜头、曝光系统等也存在一定问题。虽然近年来中国企业开始攻克这些难题,但与国际巨头相比仍然存在差距。
3、中国需加快光刻机研制速度,实现从“追赶者”向“并行者”转变。
4、建议加强顶层设计,促进产学研结合。